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來(lái)源：網(wǎng)絡(luò)資源 2021-09-09 16:47:03
氧化還原反應(yīng)方程式的配平方法
方程式配平四大原則
| 1 | 質(zhì)量守恒原則 | 反應(yīng)前后各元素的原子個(gè)數(shù)相等。 |
| 2 | 化合價(jià)升降守恒原則 | 氧化劑化合價(jià)降低的總數(shù)值與還原劑化合價(jià)升高的總數(shù)值相等。 |
| 3 | 電子守恒原則 | 反應(yīng)中還原劑失去電子的總數(shù)與氧化劑得到電子的總數(shù)相等 。 |
| 4 | 電荷守恒原則 | 若為離子反應(yīng)，反應(yīng)前后離子所帶正負(fù)電荷總數(shù)相等。 |
氧化還原反應(yīng)方程式配平步驟
| 1 | 一標(biāo) | 標(biāo)明反應(yīng)前后化合價(jià)有變化的元素的化合價(jià) |
| 2 | 二等 | 通過(guò)求最小公倍數(shù)使化合價(jià)升降總值相等 |
| 3 | 三定 | 確定氧化劑與還原劑的化學(xué)計(jì)量數(shù) |
| 4 | 四平 | 用觀察法配平其他物質(zhì)的化學(xué)計(jì)量數(shù) |
| 5 | 五查 | 檢查質(zhì)量與電荷、電子是否分別守恒 |
中學(xué)常見(jiàn)氧化還原反應(yīng)方程式
| 鈉在空氣中燃燒 | 2Na + O2 △ Na2O2 |
| 鈉與氧氣反應(yīng) | 4Na + O2 = 2Na2O |
| 過(guò)氧化鈉與水反應(yīng) | 2Na2O2 + 2H2O = 4NaOH + O2↑ |
| 鈉與水反應(yīng) | 2Na + 2H2O = 2NaOH + H2↑ |
| 鐵與水蒸氣反應(yīng) | 3Fe + 4H2O（g） = F3O4 + 4H2↑ |
| 鋁與氫氧化鈉溶液反應(yīng) | 2Al + 2NaOH + 2H2O = 2NaAlO2 + 3H2↑ |
| 三氯化鐵溶液與鐵粉反應(yīng) | 2FeCl3 + Fe = 3FeCl2 |
| 氯化亞鐵中通入氯氣 | 2FeCl2 + Cl2 = 2FeCl3 |
| 硅單質(zhì)與氫氟酸反應(yīng) | Si + 4HF = SiF4 + 2H2↑ |
| 氯氣與金屬鐵反應(yīng) | 2Fe + 3Cl2 ≜ 2FeCl3 |
| 氯氣與金屬銅反應(yīng) | Cu + Cl2 ≜ CuCl2 |
| 氯氣與金屬鈉反應(yīng) | 2Na + Cl2 ≜2NaCl |
| 氯氣與水反應(yīng) | Cl2 + H2O = HCl + HClO |
| 次氯酸光照分解 | 2HClO 光照 =2HCl + O2↑ |
| 氯氣與氫氧化鈉溶液反應(yīng) | Cl2 + 2NaOH = NaCl + NaClO + H2O |
| 氯氣與消石灰反應(yīng) | 2Cl2 + 2Ca(OH)2 = CaCl2 + Ca(ClO)2 + 2H2O |
| 氮?dú)馀c氧氣在放電下反應(yīng) | N2 + O2 放電= 2NO |
| 一氧化氮與氧氣反應(yīng) | 2NO + O2 = 2NO2 |
| 二氧化氮與水反應(yīng) | 3NO2 + H2O = 2HNO3 + NO |
| 二氧化硫與氧氣在催化劑的作用下反應(yīng) | 2SO2 + O2 催化劑 =2SO3 |
| 三氧化硫與水反應(yīng) | SO3 + H2O = H2SO4 |
| 濃硫酸與銅反應(yīng) | Cu + 2H2SO4（濃）≜ CuSO4 + 2H2O + SO2↑ |
| 濃硫酸與木炭反應(yīng) | C + 2H2SO4（濃）≜ CO2 ↑+ 2SO2↑ + 2H2O |
| 濃硝酸與銅反應(yīng) | Cu + 4HNO3（濃） = Cu(NO3)2 + 2H2O + 2NO2↑ |
| 稀硝酸與銅反應(yīng) | 3Cu + 8HNO3（稀）≜3Cu(NO3)2 + 4H2O + 2NO↑ |
| 氯氣與氫氣反應(yīng) | Cl2 + H2 點(diǎn)燃 2HCl |
| SO2 與 Cl2反應(yīng) | SO2 + Cl2 + 2H2O = 2HCl + H2SO4 |
| SO2 與H2S反應(yīng) | SO2 + 2H2S = 3S + 2H2O |
| NO、NO2的回收 | NO2 + NO + 2NaOH = 2NaNO2 + H2O |
| 粗硅轉(zhuǎn)變?yōu)榧児?/td> | Si（粗） + 2Cl2 △ SiCl4 |
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